. . . . "\u042D\u043B\u0435\u043A\u0442\u0440\u043E\u043D\u043D\u0430\u044F \u043B\u0438\u0442\u043E\u0433\u0440\u0430\u0444\u0438\u044F"@ru . "32390"^^ . . . . . . . . . . . . "Lithographie \u00E0 faisceau d'\u00E9lectrons"@fr . . . . . . . . . . . . . . "Litografia por feixe de el\u00E9trons"@pt . . . . . . . . . . . . "1513113"^^ . . . "L'utilisation d'un faisceau d'\u00E9lectrons pour tracer des motifs sur une surface est connue sous le nom de lithographie par faisceau d'\u00E9lectrons. On parle \u00E9galement de lithographie \u00E9lectronique. Par rapport \u00E0 la photolithographie, l'avantage de cette technique est qu'elle permet de repousser les limites de la diffraction de la lumi\u00E8re et de dessiner des motifs avec une r\u00E9solution pouvant aller jusqu'au nanom\u00E8tre. Cette forme de lithographie a trouv\u00E9 diverses formes d'application dans la recherche et l'industrie des semi-conducteurs et dans ce qu'il est convenu d'appeler les nanotechnologies."@fr . "L'utilisation d'un faisceau d'\u00E9lectrons pour tracer des motifs sur une surface est connue sous le nom de lithographie par faisceau d'\u00E9lectrons. On parle \u00E9galement de lithographie \u00E9lectronique. Par rapport \u00E0 la photolithographie, l'avantage de cette technique est qu'elle permet de repousser les limites de la diffraction de la lumi\u00E8re et de dessiner des motifs avec une r\u00E9solution pouvant aller jusqu'au nanom\u00E8tre. Cette forme de lithographie a trouv\u00E9 diverses formes d'application dans la recherche et l'industrie des semi-conducteurs et dans ce qu'il est convenu d'appeler les nanotechnologies."@fr . "188050640"^^ . "Quang kh\u1EAFc ch\u00F9m \u0111i\u1EC7n t\u1EED"@vi . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . "\u96FB\u5B50\u7DDA\u63CF\u753B\u88C5\u7F6E"@ja . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . "Elektronenstrahllithografie"@de . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . "Electron-beam lithography"@en . . . . . . . . . . . . . . .